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2017年中国光掩膜版市场情况分析
页面更新时间:2017-04-28 14:43

      

从我国光掩膜版的需求量来看,行业需求稳定增长,2016年需求量达到了7.98万平方米。

2011-2016年中国光掩膜版需求量

资料来源:智研咨询

行业供需结构

资料来源:智研咨询

    光掩膜版行业的发展主要受下游平板显示行业、触控行业、半导体行业和电路板行业的发展影响,与下游终端行业的主流消费电子 (手机、平板、可穿戴设备)、笔记本电脑、车载电子、网络通信、家用电器、LED 照明、物联网、医疗电子等产品的发展趋势密切相关,未来几年我国掩膜版行将向大尺寸、精细化、全产业链方向发展,因此在需求持续增加的情况下,最大的影响因素还是技术的研究情况。
 

光掩膜版行业的发展主要受下游平板显示行业、触控行业、半导体行业和电路板行业的发展影响,与下游终端行业的主流消费电子 (手机、平板、可穿戴设备)、笔记本电脑、车载电子、网络通信、家用电器、LED 照明、物联网、医疗电子等产品的发展趋势密切相关,预计未来几年我国光掩膜版行业将向大尺寸、精细化、全产业链方向发展。2011年我国光掩膜版生产规模为0.87万平方米,2016年生产规模增长至1.69万平方米,复合增长率达到14.20%。

2011-2016年我国光掩膜版生产规模分析

资料来源:智研咨询

    我国的光掩膜版行业仅能够满足国内中低档产品市场的需求,高档光掩膜版则由国外公司直接提供。目前,国内的光掩膜版企业主要集中在上海、北京、深圳及江浙地方,它们的市场侧重点各不相同。

2016年我国光掩膜版市场竞争结构分析

地区
代表性企业
备注
上海
上海凸版光掩模公司(原上海杜邦光掩模公司)
上海凸版光掩模公司是国内同行中技术较为领先的光掩膜版制作企业。它于1996年由原杜邦公司投资建成,2004年10月为日本凸版印刷公司所收购,目前是该公司的完全子公司。上海凸版拥有MEBES III电子束制版系统和完善的质量控制系统,主要针对国内外市场和国内的合资企业。掩模的特征尺寸为0.5μm,价格较高,但生产周期短,一般交货期约为2-3天。对于0.5μm以下的制版业务,该公司则通过委托在韩国加工对外服务。光掩膜版月产量为1500-2000片,公司购置了新设备,向0.25μm工艺迈进。
中心国际掩模制造厂
中芯国际掩模制造厂,起初是为该公司自身内部生产需要配套建设的,产品的特征尺寸为0.25μm-0.18μm。因目前该公司自身产品不能满足掩模工厂生产需求,故对外通过上海光刻电子作为代理,底价亏本掠夺市场。因此,对上海凸版光掩模公司的业务造成了很大的冲击。
Photronics(上海)有限公司
Photronics(上海)有限公司,位于上海张江地区,由国际著名的掩模专业制造厂美国Photronics公司投资3亿美金建设,建成后为亚洲最大的光掩模厂,可为国内用户提供0.25μm的掩模制作服务。在公司18000平方米的新厂房中,净化厂房的面积超过3000平方米。在制版生产线中,将采用材料公司的ALTA3500与3700图形发生器、日立公司的电子束刻蚀机、KLA-Tencor公司的检测系统以及其他先进的制版设备,新工厂在建设中。
江浙地区
无锡华润电子和五十八所合作的掩模工厂
以其价格有优势和生产周期赢得了不少用户。该企业掩模产品特征尺寸在0.8μm-3μm,占据了国内中档产品50%左右的市场。目前新品掩模年产量为8000片左右,工作掩模年产量为3万片。该厂具有较齐全的以ZBA-23电子束制版系统为代表的光掩膜版制造设备和较完善的质量检测系统,生活周期一般在5-8天左右。有关在清洗工艺技术支持方面还属提高阶段,因此虽然在设备上和上海凸印接近,其制版水平还有上升的空间。最近该公司陆续添置许多二手的检测、清洗设备,其水平有了较大的进步。
北京
中国科学院微电子中心光掩模及微细加工实验室
中国科学院微电子中心光掩模及微细加工实验室是我国最早从事光掩模技术研究的单位之一,它拥有纳米级束斑的JBX 5000LS电子束光刻系统、JBX 6AII电子束制版系统和光学制版系统。
深圳
清溢精密光电(深圳)有限公司
清溢精密光电(深圳)有限公司是国内唯一一家能够制造超大面积掩模(面积可达到800mm)的生产企业,它主要制作用于平面显示、液晶显示和印刷业的超大面积特种掩模。
周边地区
台湾光照等
周边地区的光掩膜版市场也已悄悄地对大陆产生了影响。如中国台湾的光照,为台湾地区最大的光掩膜版生产厂,掩模产品的特征尺寸在0.1μm左右,大陆也有前往加工者。新家坡也有一家与台湾光照水平相当的光掩模制造厂,上海华虹NEC设计公司的IC卡电路掩模板就是在这个厂家加工的。

资料来源:智研咨询
 

据统计:2016年我国光掩膜版国内总产量为1.69万平方米,年度消费量为7.98万平方米,国内光掩膜版净进口量达到6.29万平方米。

2011-2016年我国光掩膜版供需统计图

资料来源:智研咨询

    目前全球范围内光刻掩膜版主要以专业生产商为主。由于下游应用领域厂商自建光刻掩膜版生产线的投入产出比很低,且光刻掩膜版行业具有一定的技术壁垒,所以光刻掩膜版都是由专业的生产商进行生产。

    在光刻掩膜版领域,国内厂商与国外先进技术存在一定差距。目前,光罩的核心技术主要掌握在日本的HOYA、SKE,韩国的LG Micron、PKL以及我国台湾地区的AIPC等企业手中,由于其对于光掩膜版的关键技术与设备进行了较为严格的封锁,所以导致国内厂商在技术上与国外专业厂商相比存在一定的差距。

    据统计:2015年我国光掩膜版需求市场规模为56.7亿元,2016年国内需求市场规模增长至59.5亿元,规模较上年同期增长4.9%。

2011-2016年我国光掩膜版市场规模走势图

资料来源:智研咨询