报告显示，此次增长主要由光刻胶需求大幅拉动，特别是EUV（极紫外光刻）光刻胶，其需求预计将同比增长30%，有着强劲的市场潜力。

随着逻辑芯片和DRAM等先进节点器件产量持续提升，辅助材料与扩展材料（如显影液、曝光用掩模板清洗剂等）市场也将迎来稳健增长。

市场回顾：TECHCET 数据显示，2024 年（去年）光刻材料收入增长 1.6%，达到 47.4 亿美元（现汇率约合 343.28 亿元人民币）。其中 EUV 光刻胶表现最为突出，同比增长 20%。而辅助材料和扩展材料均表现良好，分别增长 2%。

报告强调，干法光刻胶沉积和纳米压印光刻等创新技术，对满足未来更高级别节点工艺的材料需求至关重要。

随着全球对PFAS（全氟及多氟烷基物质）相关化学品的逐步淘汰，材料供应格局或将重塑——目前已有至少一家大型光刻胶厂商成功开发出性能优异的非PFAS KrF光刻胶。

该报告预计，至2029年，光刻材料市场将以6%的复合年增长率（CAGR）持续扩张。供应链本地化趋势正在加强，美国、韩国、中国台湾和大陆等地均计划新建材料生产与研发设施，以保障关键材料供应。

此外，地缘政治与贸易限制也被提及：尽管市场前景乐观，但行业仍面临多重挑战。除地缘政治风险外，先进制程对材料纯度、稳定性的极致追求，以及环保法规趋严带来的配方升级压力，均要求企业持续加大研发投入。