未来，公司将通过差异化的技术产品展开市场竞争，例如炉管方面，公司有特别的炉管设计，从均匀性、颗粒性以及使用效率等方面改进 ALD。公司 ALD 产品在不断拓展国内市场的同时，也很看重国际市场，希望将公司差异化的炉管ALD 技术导入给国外客户，所以公司是国内外两边都在进行。

对于清洗设备，盛美上海表示，三年以前，公司清洗设备主要集中于单片设备。近年来，随着公司不断对槽式设备进行研发投入，现阶段公司槽式设备基本实现全工艺覆盖，包括清洗、去胶以及一些更先进的 3D 封装方面的槽式设备，公司认为未来槽式设备在国内成熟制程的扩张方面存在巨大潜力。因此，公司第二季度清洗设备的增长很大一部分来源于槽式设备的增加。

其进一步指出，未来，公司还是会保持双向发展，在单片设备扩张的同时发展超临界 CO2 干燥清洗。这项技术目前全世界仅三家公司拥有，并且公司拥有独立的 IP 以及独特的技术可以节省 40%的 CO2 使用量，未来公司会把这个设备推向国内和国际市场，特别是 CO2 干燥和公司兆声波清洗设备结合在一起，可以起到小结构清洗不破坏，同时又能干燥，应用前景非常广阔。

而盛美上海电镀设备目前主要是新客户拓展较多，进行收入确认还需要一定时间，可能在今年下半年四季度或明年确认收入。其称，从出机量来看，一两年前公司电镀设备的出机量主要侧重先进封装设备，从今年开始公司的出机量主要侧重于前道设备的需求量。公司目前不仅是发展成熟制程，先进制程亦有突破，所以明年公司将有非常大的增长。

Track设备已于去年年底出机，目前进展不错，但由于是第一台设备，验证早期过程中存在部分常规问题，盛美上海团队在积极和客户以及合作厂商共同解决这些问题，希望年底这个设备能进入小批量的验证式的生产阶段。公司Track 设备的起点较高，未来的目标是达到每小时 300 片甚至更高的产量。

PECVD 设备方面，盛美上海也在和客户端沟通共同研发中得到很多进展，一些基本的问题都已解决完毕。其表示，未来公司考虑会有两类客户，一个是逻辑电路、一个是存储，同时公司的PECVD 设备有一个特点，与国际一流设备结构不同。

所以未来公司在 PECVD 方面将利用公司的差异化技术来满足客户更高的要求，实现均匀性、颗粒性、薄膜应力以及产出等多方面的平衡，PECVD 将成为公司巨大的成长点，公司也会重点将 PECVD 设备推向市场。从销售角度看，PECVD 最少要明年才会为公司提供销售贡献，如果要达到高销售贡献度需要到 2025 年或 2026 年左右。这几个设备的推出让公司有信心在未来 3-5 年保持高速增长状态。

对于公司临港项目，盛美上海称目前主要分为两部分，生产一厂目前是重点，年前应该会投入试生产。项目会在年底全部建设完成，包括研发实验室、生产二厂等，将陆续投入使用。

此外，会有一个研发洁净室在今年完成装修，预计明年一季度投入使用，这样公司就拥有一个跟客户端完全同样等级的洁净室，这会使公司的研发条件大大改善。一些新产品、改进技术可以在公司验证后再送到客户端，研发的进度会大大增强。