说明会上，公司董事长兼总经理尹志尧博士及管理层出席会议，向现场及线上投资者介绍了公司在业绩增长、研发投入、产品创新、产能扩张和知识产权等方面的最新进展。

业绩稳健增长，研发投入显著提升

2024年，中微公司实现营业收入约90.65亿元，同比增长约44.73%。

其中，刻蚀设备销售收入约72.77亿元，同比增长约54.72%；LPCVD薄膜设备实现首台销售，全年销售额约1.56亿元。

公司持续加大研发投入，2024年研发总投入达到24.5亿元，同比增长约94.13%。

目前，公司在研项目涵盖六大类，研发周期从过去的三到五年缩短至两年或更短。

产品创新与市场拓展并重

中微公司不断推进产品创新，开发出多个具有市场竞争力的新设备，包括高能CCP等离子体刻蚀设备、ICP低能等离子体刻蚀设备、晶圆边缘刻蚀设备、新一代等离子体源的PECVD设备、LPCVD及ALD薄膜设备、外延EPI设备和电子束量检测设备等。

此外，公司在先进封装领域布局了PVD、CVD和量检测设备，为客户提供全面解决方案。

在泛半导体微观制造领域，中微公司开发了用于氮化镓基发光二极管、Mini-LED和Micro-LED的MOCVD设备，以及用于碳化硅和氮化镓功率器件的MOCVD设备。

2023年底，公司决定开发大平板设备，填补国内在新型显示技术领域的空白，并取得了超前进展。

产能扩张与全球布局

中微公司在上海临港滴水湖建设的10万平方米总部双塔大楼预计于今年底建成。

为更好地贴近客户，公司还计划在广州增城区及成都高新区建设生产和研发基地，确保未来十年有足够的产能支持新产品的研发和生产。

知识产权与客户满意度持续提升

截至2025年3月底，中微公司累计申请专利2,941项，其中发明专利2,443项，占比达83%。

公司两次荣获“中国专利金奖”，多次获得“中国专利优秀奖”、“上海市发明创造专利奖”和“上海市知识产权创新奖”等荣誉。

在全球半导体设备客户满意度调查中，中微公司连续五年获得总评分第三，薄膜设备四次被评为第一。

中微公司表示，将继续以“打造世界级装备企业”为战略目标，开发更多高端设备产品，力争早日成为国际一流的半导体设备公司。