离子束溅射沉积设备制备薄膜均匀性研究
针对离子束溅射沉积设备薄膜均匀性问题,采用理论分析计算和试验相结合的方法计算了薄膜厚度的分布差异,由此设计出修正板外形。实验结果表明,修正后的薄膜均匀性从32%提高到了1.7%。
ERS electronic开发了一种史无前例的晶圆翘曲测量和分析设备。
晴天 2023-06-01对本案行政法官于2023年5月9日作出的初裁(No.28)不予复审,即基于此前的和解与申请方撤回,终止本案调查。
晴天 2023-06-01重点方向在终端侧核心软件、图形算法、通信、拍照等方面研究开发工作。
IT之家 2023-06-01涉及泛半导体、新能源、新材料、生命健康等多个领域。
晴天 2023-06-01磷化铟晶片主要用于生产光模块中的激光器、探测器芯片,下游主要运用于5G通信/数据中心、可穿戴设备等。
晴天 2023-06-01作为全球最大的制造业国家和半导体消费市场,未来十年也将是中国MEMS产业的黄金十年,将迎来前所未有的机遇。
晴天 2023-06-01投资50亿元,主要产品为光伏、锂电、半导体行业专用设备。
晴天 2023-06-01总投资42亿元,用于建设一条集研发和月产1万片12寸集成电路特色工艺晶圆小规模工程化、国产验证及生产验证的中试试验线。
晴天 2023-06-01半导体产业是科技自立自强的底层保障。“补短板”以保障生存发展,“锻长板”以掌握反制手段,已经成为全产业的迫切需求与广泛共识。
中国半导体行业协会&中国电子报 联合出品 2021-05-212021年,在需求剧增与创新变革的双重引领下,全球半导体市场格局拉开重塑序幕。
晴天 2021-07-07如今中国大陆由于市场需求的推动,成为新兴电子产业的中坚力量。
小微 2021-07-07胜科纳米董事长、总裁李晓旻登上新加坡《时代财智》封面,成为该杂志2021年5月的封面人物。
微电子制造 2021-07-07针对离子束溅射沉积设备薄膜均匀性问题,采用理论分析计算和试验相结合的方法计算了薄膜厚度的分布差异,由此设计出修正板外形。实验结果表明,修正后的薄膜均匀性从32%提高到了1.7%。
晶片双面磨抛设备主要用于双面磨抛晶片,其压力控制的精度、速度以及稳定性是影响晶片磨抛质量和磨抛效率的关键性指标,为了满足双面磨抛设备对压力的控制要求,设计了闭环压力控制系统,通过动态调整控制参数实现了对压力的精确控制。
通过对自动键合机送线装置的构成和原理进行研究,并结合键合工艺对送线系统进行分析,提出送线装置的结构优化方案,进而为提高自动键合机的效率和稳定性提供理论支持。
为了能够高效地进行精度补偿,对打孔精度自补偿技术进行了深入地研究。结合历史数据及相应算法对X、Y坐标进行定位精度补偿,根据补偿结果,对设备是否满足定位精度要求做出决策。该技术的提出为打孔机的生产在成本和时间上节省了大量的资源。
通过传统划片技术与隐形切割的比较,介绍了隐形切割的技术特点;对隐形切割的基本原理、激光波长选择、切割过程中晶圆内改质层的形成机理做了详细分析;重点介绍了隐形切割技术在MEMS器件晶圆划片工艺中典型应用,对有关问题给出了解决方案。
由于物联网“智慧”设备的快速发展,业界对能够在更小的封装里实现更多功能的系统级封装(SiP) 器件的需求
提到科技,身处半导体行业的我们往往会想到电子工业的主要驱动力:互补金属氧化物半导体(CMOS)逻辑和存储器。
当今是一个科技技术高速发展迭代的时代,5G,人工智能,云计算,大数据,万物互联等新一代技术的崛起,“视屏显示”已经成为人机交流互动的主要界面,智能手机,AR/VR, 可穿戴设备,电视,车载显示等广泛应用,人们对显示屏也相应有了更高的需求,新需求给显示应用市场带来了新的技术创新。