默克在韩国建立半导体CMP生产线,预计今年上半年量产

2022-03-24 作者: 晴天

据韩媒报导,德国默克公司将在韩国生产化学机械抛光 (CMP) 浆料,最早将于今年上半年量产。CMP 浆料是一种用于抛光和平整半导体晶圆表面的材料。它被放置在晶圆和 CMP 垫之间并旋转,用于三星电子、SK海力士等半导体元件企业的晶圆研磨工艺。

 

默克正在与韩国客户进行 CMP 浆料的质量测试,预计将于2022年上半年开始交付。

 

此前,默克在京畿道平泽市建设了CMP浆料生产线,并在2020 年开业的韩国先进技术中心 (K-ATeC) 建立了研发和制造设施,推进CMP浆料材料研发,同时生产也在当地进行,实现协同效应的最大化。具体的产能还不得而知。韩国默克相关人士表示:“现有的CMP浆料虽然从海外引进并供应到韩国国内,但通过本地直接生产,交货时间最多可缩短一半”,并称“材料研究也在韩国推进中,能够快速匹配客户想要的物性”。默克预计,每个产品将缩短20%至50%的交货时间。在半导体供应链危机中,默克把快速供给能力作为差异化战略。

 

默克本土化战略或许是应对CMP泥浆市场增长的铺垫。CMP浆料在CMP研磨工艺中占70%,比重很高。近期三星电子和SK海力士扩大国内半导体生产能力,预计CMP浆料需求将激增。三星电子的平泽第三工厂(P3)、SK海力士利川M16等成为代表性的客户。

 

日本昭和电工也决定在韩国建设CMP浆料厂。随着外国公司加入与东进半导体和KCTech等国内公司的竞争,竞争有望升温。

 

默克还准备在韩国生产一种极紫外 (EUV) 冲洗液。该产品在 EUV 曝光过程后起到去除残留物的作用,需要一种不同于当前光源的专用材料,例如氟化氩 (ArF)。

 

默克也在与企业客户一起检查 EUV 冲洗液的质量。默克目前已在海外生产EUV冲洗液,但不久将在韩国生产。

 

默克于2019年收购的 Versum Materials 也在扩大其在韩国半导体市场的影响力。该公司正在向三星电子等供应双图案技术 (DPT) 材料。DPT 可防止在绘制微处理电路的双重图案化方法中损坏半导体。三星电子大约一半的 DPT 材料依赖 Versum Materials。

 

随着CMP浆料企业的战略变化,市场的格局变化也将不可避免。在CMP浆料市场,美国公司Cabot到2000年代初期曾一直占据近60%的市场份额。然而,随着最近供应商多样化,其市场份额已下降到30%左右。包括日立和富士胶片在内,默克收购的Versum Materials等都进入了该市场。这意味着,CMP浆料寡头垄断的结构正在减弱,新供应商迅速崛起的空间较大。特别是默克计划到2025年在韩国投资8300亿韩元(约44亿人民币),扩大半导体、显示材料供应能力。

 

CMP浆料是半导体晶圆研磨材料。在晶圆和CMP垫之间加入CMP材料,在旋转的同时,机械地削去表面或产生化学反应,实现平坦化。据市场调查公司Techse估计,截至2020年,全球CMP料浆市场为13亿美元,预计到2024年,年均增长率为6.2%。

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