据可靠业内人士透露，台积电南京厂已向中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）下单采购 10 台 5nm 介质刻蚀机，这些设备预计于 2026 年第一季度正式交付。

早在 2018 年底，中微公司就对外透露，其自主研发的 5nm 等离子体刻蚀机已通过台积电验证，性能优良。

刻蚀设备是芯片制造过程中的关键装备之一，负责在芯片上精准地刻蚀出复杂的电路结构。随着芯片制程工艺不断向更小尺寸迈进，对刻蚀设备的精度、效率以及工艺控制能力等提出了近乎苛刻的要求。

5nm 制程是当前芯片制造的先进水平，能够生产出性能更强大、功耗更低的芯片产品，广泛应用于高性能计算、人工智能、5G 通信等前沿科技领域。

据悉，中微公司的 5nm 刻蚀设备具备诸多技术优势，能有效提升了刻蚀过程的均匀性与精准度，且极大地提高了生产效率。

如今该设备正式获得订单，彰显了中微在该领域技术的成熟与可靠。

台积电（南京）有限公司，是台积电在大陆的重要布局，于 2016 年登记成立，总投资约 30 亿美元，是台商在大陆投资单体总量最大的项目之一。

此外，中微公司Primo Menova 12寸金属刻蚀设备全球首台机顺利付运。

这是中微公司在等离子体刻蚀领域的又一自主创新。据介绍，该设备专注于金属刻蚀，尤其擅长于金属Al线、Al块的刻蚀，可广泛应用于功率半导体、存储器件和先进逻辑芯片的制造，是晶圆厂金属化工艺主要设备之一。

资料显示，截至2024年年底，中微公司累计已有超过6000台等离子体刻蚀和化学薄膜设备的反应台，在国内外137条生产线实现量产和大规模重复性销售。

随着台积电南京厂等重点客户的持续拓展，中微公司在全球半导体设备市场的竞争力正逐渐提高。